真空中の銅・クロム接点の長時間電圧印加における絶縁破壊特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED13071

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2013/06/24

タイトル(英語): Breakdown Caracteristics of Copper-Chromium Contact under Long Time Voltage Application in Vacuum

著者名: 塩入 哲(東芝),浅利 直紀(東芝),佐藤 純一(東芝),多賀谷 治(東芝),久保田 信孝(東芝),捧 浩資(東芝)

著者名(英語): Shioiri Tetsu(Toshiba Corporation),Asari Naoki(Toshiba Corporation),Sato Junichi(Toshiba Corporation),tTagaya Osamu(Toshiba Corporation),Kubota Nobutaka(Toshiba Corporation),Sasage Kosuke(Toshiba Corporation)

キーワード: 真空|絶縁破壊特性|銅・クロム接点|Ｖ－ｔ特性|Vacuum|Breakdown Characteristic|copper-chromium contact |V-t Characteristic

要約(日本語): 接点材料として広く用いられている銅・クロム接点の交流電圧の長時間印加におけるＶ－ｔ特性を調査した。課電寿命を表す垂下係数ｎは無負荷開閉が無い場合で、55と67が得られた。無負荷開閉を行うと破壊電界強度は約２０％低下し、ｎの値は50となった。また、真空絶縁のＶ－ｔ特性に傾きを生じる原因として、ギャップ間を流れる電界放射電流が起因していることを実験的に明らかにした。

要約(英語): In order to clarify the long time reliability of vacuum insulation, the V－t characteristic of copper-chromium contact was investigated.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,134 Kバイト