水を原料ガスとするマイクロ波励起プラズマを用いたレジスト除去のメカニズムに関する考察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED16202

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2016/10/21

タイトル(英語): Investigations of Photoresist Removal Mechanism using Microwave-excited Plasma in Water Vapor.

著者名: 北野 卓也(金沢大学),鈴木 宏明(金沢大学),塩田 有波(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Takuya Kitano(Kanazawa Univ.),Hiroaki Suzuki(Kanazawa Univ.),Arufua Shiota(Kanazawa Univ.),Tatsuo Ishijima(Kanazawa Univ.),Yasunori Tanaka(Kanazawa Univ.),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa Univ.)

キーワード: 水プラズマ|アッシング|メカニズム|マイクロ波|発光分光計測|water-plasma|ashing|mechanism|microwave|optical emission spectra

要約(日本語): 水を原料ガスとするマイクロ波励起プラズマを用いたアッシング法は，薬液フリーの環境に優しい革新的なアッシング法である。また，水をウェハに接触させることで直接的に冷却しながら低温でレジスト除去を行うことができる。本報では，ポジ型レジストに対してプラズマ照射した際における発光分光計測を行うことで，アッシングのメカニズムに関する考察をした。

要約(英語): A method of photoresist removing using microwave-excited plasma can realize environmentally-friendly and low temperature process. In this report, we investigated the mechanism of photoresist removal in microwave-excited plasma ashing process using time resolved optical emission spectroscopic measurements.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,217 Kバイト