CuCr電極間に点弧させた真空アーク内における2次元電子密度分布のCr含有量依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED17074

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2017/07/19

タイトル(英語): Cr Content Dependence of Two-Dimensional Electron Density Distribution over Vacuum Arc Generated between CuCr Electrode

著者名: 稲田 優貴(埼玉大学),永井 裕之(東京大学),松岡 成居(東京大学),熊田 亜紀子(東京大学),池田 久利(東京大学),日高 邦彦(東京大学),前山 光明(埼玉大学)

著者名(英語): Yuki Inada(Saitama University),Hiroyuki Nagai(The University of Tokyo),shigeyasu Matsuoka(The University of Tokyo),Akiko Kumada(The University of Tokyo),Hisatoshi Ikeda(The University of Tokyo),Kunihiko Hidaka(The University of Tokyo),Mitsuaki Maeyama(Saitama University)

キーワード: 真空アーク|真空遮断器|電子密度|金属蒸気密度|ＣｕＣｒ|電極材料|vacuum arc|vacuum interrupter|electron denisty|metal vapour density|CuCr|electrode material

要約(日本語): 真空遮断器の大容量化を実現するためには、電極材料の組成を最適化する必要がある。CuCr電極を使用した真空遮断器では、遮断容量がCrの配合量に依存する。しかしその理由を真空アークの性状と絡めて明らかにした例はない。そこで本研究ではCuCr電極におけるCrの含有量をパラメータに真空アーク中の電子・金属蒸気密度を測定し、これら密度と遮断容量の関連性について検討を行ったので報告する。

要約(英語): The development of high-capacity vacuum circuit breakers requires the optimization of the electrode material composition. Here, the interruption capacity of the vacuum circuit breakers installing CuCr electrodes is strongly dependent on the mixture ratio of Cr. In this paper, two-dimensional electron and metal vapour density distributions were measured for vacuum arcs generated between CuCr electrodes by changing the Cr content. Further, we describe the correlation between the electron and metal vapour densities and the interruption capacity.

原稿種別: 日本語

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