真空アークにおける横磁界が及ぼす酸化膜除去速度

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED17077

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2017/07/20

タイトル(英語): Removal Speed of Oxide Layer Affected by Transverse Magnetic Field in Vacuum Arc Cathode Spot

著者名: 金田 至功(東京都市大学),高橋 有沙(東京都市大学),山本 真司(東京都市大学),岩尾 徹(東京都市大学)

著者名(英語): Shiko Kaneda(Tokyo City University),Arisa Takahashi(Tokyo City University),Shinji Yamamoto(Tokyo City University),Toru Iwao(Tokyo City University)

キーワード: 真空アーク|陰極点|横磁界|逆行運動|表面処理|Vacuum arc|Cathode spot|Transverse Magnetic Field|Retrograde Motion|Surface Treatment

要約(日本語): 陰極点はランダムに移動する特性を持つが，横磁界を印加することで一方向への移動制御が可能である。アーク電流は陰極点の分裂によって個数と電流密度を決定し，磁界中では電流密度がローレンツ力に寄与するため，移動速度も変化させることが想定される。しかし，横磁界中でのアーク電流と移動速度，及び個数の関係が明らかではない。そこで，本論文ではHSVCを用いて撮影した結果をもとに，画像処理を行うことで移動速度と個数を計測した。

要約(英語): It is possible to control the moving direction of the cathode spot applied by the transverse magnetic field because the cathode spot moves at random. In this paper, moving speed and number of vacuum arc cathode spot with changing transverse magnetic field and arc current were measured using image processing with images taken by a high speed camera.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 907 Kバイト