バッフル板付きチタン電極によるAr/N2混合ガス環境下での反応性直流マグネトロンスパッタリング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED18038

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2018/05/18

タイトル(英語): DC magnetron sputtering by a titanium target electrode with a gas baffle plate under argon / nitrogen mixture gas atmosphere

著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),三好 邦明(兵庫県立大学),田中 尊志(兵庫県立大学),岡 好浩(兵庫県立大学)

著者名(英語): Azuma Kingo(University of Hyogo),Miyoshi Kuniaki(University of Hyogo),Takasi Tanaka(University of Hyogo),Kimura Takashi(University of Hyogo)

キーワード: マグネトロン放電|反応性スパッタリング|窒化チタン|チタンターゲット|プラズマイオンプロセス|Magnetron discharge|Reactive sputtering|Titanium niftide|Titanium target|Plasma ion process

要約(日本語): チタンターゲットの中央部にバッフル板を取り付けたbガスバッフル板付きスパッタターゲットを不平衡型マグネトロンスパッタ源に取り付け窒化チタン膜の形成を試みた。混合ガス環境下でターゲットを放電させたところ、アルゴンに対する窒素の割合が１５％のところで入力電力が変化した。フラットターゲットでは約５％で変化が起こることからバッフル板は遷移領域になる流量比を高い方に押し上げる効果があることがわかった。、

要約(英語): We attached a gas baffle plate to the central part of a titanium target for a magnetron-sputtering to inject argon gas along the target surface from the center of the target. When the target was made to discharge under mixed gas environment, target current changed in the point where percentage of nitrogen to argon is about 15%. In the case of the flat target, it was about 5%.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,259 Kバイト