SiC-MOSFETインバータ電源により生成した高繰り返し ナノ秒パルスグロー放電発光の時空間分解計測

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED18046

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2018/05/19

タイトル(英語): Spatio-temporal resolved measurements of optical emission intensities in a high-repetition nanosecond pulsed glow discharge generated by a SiC-MOSFET inverter power supply

著者名: 前川 拓也(兵庫県立大学),菊池 祐介(兵庫県立大学),大坪 陽(株式会社栗田製作所),西村 芳実(株式会社栗田製作所),永田 正義(兵庫県立大学),八束 充保(兵庫県立大学)

著者名(英語): Takuya Maegawa(University of Hyogo),Yusuke Kikuchi(University of Hyogo),Akira Otsubo(Kurita Seisakusyo Co. Ltd),Yoshimi Nishimura(Kurita Seisakusyo Co. Ltd.),Masayoshi Nagata(University of Hyogo),Mitsuyasu Yatsuzuka(University of Hyogo)

キーワード: パルスグロー放電|ＳｉＣ－ＭＯＳＦＥＴインバータ電源|準大気圧プラズマ|アフターグロー|pulsed glow discharge|SiC-MOSFET inverter power supply|sub-atmospheric pressure plasma|afterglow

要約(日本語): 真空容器内の平行平板電極間（ギャップ長：30 mm）に最高繰り返し周波数600 kHzの高繰り返し負極性パルス電圧（パルス幅：200 ns）を印加し，ヘリウムガス圧力10 kPaにてパルスグロー放電を生成した。ICCDカメラを用いた時空間放電発光計測から，アフターグロー発光が約8us持続すること，周波数120 kHz以上では陰極からの2次電子放出が放電生成・維持に重要であること等を明らかにした。

要約(英語): A repetitive nanosecond pulsed helium glow discharge with a maximum driving frequency of 600 kHz was generated with a pair of parallel electrodes under a gas pressure of 10 kPa. It was clarified that the pulsed glow discharge at the repetition frequency higher than ~120 kHz was maintained by secondary electrons emitted from a cathode electrode.\n

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,322 Kバイト