自己遮蔽方式HVICのESD耐量向上技術
自己遮蔽方式HVICのESD耐量向上技術
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: EDD17080,SPC17179
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子デバイス/【D】産業応用部門 半導体電力変換合同研究会
発行日: 2017/11/20
タイトル(英語): A New Downsized HVIC with High ESD Tolerance
著者名: 田中 貴英(富士電機),山路 将晴(富士電機),上西 顕寛(富士電機),大橋 英知(富士電機),澄田 仁志(富士電機)
著者名(英語): Takahide Tanaka(Fuji Electric Co., Ltd.),Masaharu Yamaji(Fuji Electric Co., Ltd.),Akihiro Jonishi(Fuji Electric Co., Ltd.),Hidetomo Ohashi(Fuji Electric Co., Ltd.),Hitoshi Sumida(Fuji Electric Co., Ltd.)
キーワード: 高耐圧集積回路|静電放電|自己遮蔽方式|High voltage integrated circuit (HVIC)|Electrostatic discharge (ESD)|Self-shielding
要約(日本語): 高耐圧集積回路(HVIC)において、高い静電放電(ESD)耐量とチップサイズシュリンクを両立するため、新しい自己遮蔽方式の技術を開発した。この新技術では、高耐圧接合終端(HVJT)ダイオードを高耐圧N型MOSFETの保護ダイオードとして用いることで、チップ面積の増大を抑制しつつ、高いESD耐量を実現する。
要約(英語): To achieve a downsized high voltage integrated circuit (HVIC) with high electrostatic discharge (ESD) tolerance, we have proposed the improved self-shielding technique in which a high voltage junction termination (HVJT) diode works as a protection diode of high voltage Nch MOSFETs. This new technique is more effective not only in improving ESD tolerance but also in downsizing.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,717 Kバイト
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