high-k膜のXPSによる評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM05022

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会

発行日: 2005/06/03

タイトル(英語): The Study of high-k Gate Insulator high-k Dielectric film by XP

著者名: 野平 博司(武蔵工業大学),服部 健雄(武蔵工業大学)

著者名(英語): Hiroshi Nohira(Musashi Institute of Technology),Takeo Hattori(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 角度分解X線光電子分光法|高誘電率膜|深さ方向分析|電子帯構造

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 978 Kバイト