HF酸処理SiGe(100)表面の初期酸化過程の観察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM06022

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会

発行日: 2006/10/03

タイトル(英語): Initial oxidation of HF-acid treated SiGe(100) surfaces

著者名: 廣瀬 文彦(山形大学工学部),永戸 雅也(山形大学工学部),木下 友太(山形大学工学部)

著者名(英語): Fumihiko,Hirose|Masaya,Nagato|Yuta,Kinoshita

キーワード: SiGe| 初期酸化|SiGe(100)|HF酸処理|SR|XPS|MOS

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 683 Kバイト