イオン照射PVDF膜のエッチング速度への熱処理効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM08015

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会

発行日: 2008/05/16

タイトル(英語): Heat-Treatment Effect On Etching Rate Of Ion-Irradiated Poly(vinylidene fluoride) Thin Films

著者名: 越川 博(原子力機構),八巻 徹也(原子力機構),Rosiah Rohani(原子力機構),高橋 周一(原子力機構),長谷川 伸(原子力機構),浅野 雅春(原子力機構),前川 康成(原子力機構)

著者名(英語): Hiroshi Koshikawa(JAEA),Tetsuya Yamaki(JAEA),Rosiah Rohani(JAEA),Shuichi Takahashi(JAEA),Shin Hasegawa(JAEA),Masaharu Asano(JAEA),Yasunari Maekawa(JAEA)

キーワード: ポリフッ化ビニリデン|イオンビーム|エッチング|潜在飛跡|コンダクトメトリー|Poly(vinylidene fluoride)|ion beam|etching|latent track|conductometry

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 798 Kバイト