光反応性有機薄膜の蒸着とパターン形成への応用
光反応性有機薄膜の蒸着とパターン形成への応用
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: EFM10003
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会
発行日: 2010/05/21
タイトル(英語): Vapor Deposition of Photosensitive Films and its Application for Patterning
著者名: 室山 雅和(東京農工大学),横倉 精二(東京農工大学),斉藤 航(東京農工大学),田中 邦明(東京農工大学),臼井 博明(東京農工大学)
著者名(英語): Muroyama Masakazu(Tokyo University of Agriculture and Technlogoy),Yokokura Seiji(Tokyo University of Agriculture and Technlogoy),Saitou Wataru(Tokyo University of Agriculture and Technlogoy),Tanaka Kuniaki(Tokyo University of Agriculture and Technlogoy),Usui Hiroaki(Tokyo University of Agriculture and Technology)
キーワード: 蒸着膜|感光性|光重合|パターニング|有機EL|vapor deposition|photosensitive|photopolymerization|patterning|organic EL
要約(日本語): 重合性モノマーと光重合開始剤を共蒸着することによって感光性を有す有機薄膜を形成した。これに紫外線照射を行い、有機溶媒を用いて現像することで高分子薄膜のパターンを形成した。この手法は有機ELなどのデバイス形成に応用することができる。
要約(英語): Photosensitive thin films were prepared by codeposition of polymerizable monomer and photoinitiator, which was patterned by UV irradiation followed by developing in an organic solvent.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 679 Kバイト
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