ArFエキシマレーザによって形成されたシリコーンゴム表面の周期的微細隆起構造の形状制御

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM17011

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会

発行日: 2017/09/19

タイトル(英語): Shape control of periodic micro-swelling structure on silicone rubber surface formed by ArF excimer laser

著者名: 大越 昌幸(防衛大学校),松永 亮太(防衛大学校)

著者名(英語): Masayuki Okoshi(National Defense Academy),Ryota Matsunaga(National Defense Academy)

キーワード: ＡｒＦエキシマレーザ|Ａｌ薄膜|シリコーンゴム|微小球|微細隆起構造|ArF excimer laser|Al thin film|silicone rubber|microsphere|micro-swelling structure

要約(日本語): 厚さ2 mmのシリコーンゴム表面に，予めAl薄膜を膜厚約10 nmで真空蒸着した．次に，そのAl薄膜上に，直径2.5 ?mのシリカガラス製微小球を単層で整列させた．その後，試料上方から，ArFエキシマレーザをフルエンス10 mJ/cm2，パルス繰り返し周波数1 Hz，ショット数1～3600の範囲で照射した．その結果，Al薄膜の蒸着を施さなかった場合，円錐台の形状となるのに比べ，試料表面には直径約1 ?m ，高さ1～1.3 ?mのピラー状構造の形成が認められた．

要約(英語): Single layer of silica microspheres 2.5 micron in diameter was formed on a 10-nm-thick Al thin film/2-mm-thick silicone rubber, then a 193 nm ArF excimer laser irradiated the sample surface. As a result, the pillar-shaped micro-swelling structures of approximately 1 micron in diameter and 1 to 1.3 micron in height were successfully formed, compared to the truncated cone-shaped micro-swelling structure obtained when the Al thin film was not used during laser irradiation.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,296 Kバイト