塗布光照射法による先進セラミックコーティング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM18034

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会

発行日: 2018/03/28

タイトル(英語): Advanced ceramics thin films produced by photo-assisted metal organic deposition (MOD)

著者名: 土屋 哲男(産業技術総合研究所),中島 智彦(産業技術総合研究所),山口 巌(産業技術総合研究所),鈴木 宗泰(産業技術総合研究所),鵜澤 裕子(産業技術総合研究所)

著者名(英語): TETSUO TSUCHIYA(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),Tomohiko Nakajima(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),Iwao yamaguchi(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),MUNEYASU SUZUKI(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),YUKO UZAWA(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST))

キーワード: 光ＭＯＤ|セラミックス|低温成長|エピタキシャル|フレキシブル|Photo-assisted MOD|Ceramics|low temperature growth|epitaxial|Flexible

要約(日本語): 持続的発展社会の構築には、省資源、省エネルギー生産に資する多品種変量生産が可能な新しい薄膜・部材の製造プロセスが必要、不可欠である。これらの課題を解決するため、金属有機化合物やナノ粒子の光反応により、大気中、低温で機能性セラミックス膜をコーティングする手法を開発した。本講演では、電子 / 光部材・デバイスの開発を目的としたエピタキシャル膜・配向膜及やフレキシブルセラミック膜生成機構とその応用について紹介する。

要約(英語): In order to construct the “eco-society” which progresses on a worldwide scale, it is necessary to develop new green devices which reduce the carbon dioxide. Metal Oxide materials is very important for the development of the new green devices because metal oxide have many functions such as magnetic, optic, and electric properties. So far, a great number of applications for green device have been investigated by using various oxide thin film processing. However, in most cases, a heat treatment at greater than 500℃ is required for the fabrication of oxide films. To lower the processing temperature, we developed new thin film process “excimer laser metal organic decomposition (ELAMOD)”, “photo reaction of nanoparticles (PRNP)” and “photo reaction of hybrid solution” (PRHS). By using the process, epitaxial oxide thin film (Fig.1), flexible ITO thin film on PET (Fig.2) and RuO2 thick film on PI (Fig.3) were prepared.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 986 Kバイト