シリコーンゴム表面への微細隆起構造のArFレーザ形成とその形状制御
シリコーンゴム表面への微細隆起構造のArFレーザ形成とその形状制御
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: EFM18036
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会
発行日: 2018/03/28
タイトル(英語): ArF laser formation and shape control of micro-swelling structure on silicone rubber surface
著者名: 大越 昌幸(防衛大学校)
著者名(英語): Masayuki Okoshi(National Defense Academy)
キーワード: ArFエキシマレーザ|シリコーンゴム|微小球|微細隆起構造|Al薄膜|ArF excimer laser|silicone rubber|microsphere|micro-swelling structure|Al thin film
要約(日本語): シリコーンゴム表面にAl薄膜(膜厚約10 nm)で真空蒸着した後,その表面に直径2.5ミクロンのシリカガラス製微小球を単層で整列させた.そして,波長193 nmのArFエキシマレーザをフルエンス10 mJ/cm2,パルス繰り返し周波数1 Hz,ショット数1~3600の範囲で照射した.Al薄膜の蒸着を施さなかった場合,形成される微細隆起構造は円錐台の形状となったのに対し,Al薄膜を用いると直径約1ミクロン,高さ1~1.3ミクロンの円柱状の微細隆起構造が形成することがわかった.
要約(英語): Single layer of silica microspheres 2.5 micron in diameter was formed on a 10-nm-thick Al thin film/2-mm-thick silicone rubber, then a 193 nm ArF excimer laser irradiated the sample surface. As a result, the pillar-shaped micro-swelling structures of approximately 1 micron in diameter and 1 to 1.3 micron in height were successfully formed, compared to the truncated cone-shaped micro-swelling structure obtained when the Al thin film was not used during laser irradiation.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,300 Kバイト
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