吹き出し形プラズマCVDによるグラフェン膜の低温合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP19037

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2019/05/15

タイトル(英語): Low-temperature synthesis of graphene film using blowing-type plasma CVD

著者名: 金 載浩(産業技術総合研究所),榊田 創(産業技術総合研究所),板垣 宏知(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Jaeho Kim(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),Hajime Sakakita(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),Hirotomo Itagaki(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST))

キーワード: プラズマＣＶＤ|マイクロ波プラズマ|カーボンナノ材料|グラフェン|吹き出いプラズマ|plasma CVD|microwave plasma|carbon nanomaterial|graphene|blowing plasma

要約(日本語): 本研究では、マイクロ波励起引き出しプラズマを用いた新しいCVD技術を開発した。これにより、従来技術では実現困難であった、高品質グラフェンの低温合成を可能にした。講演では、最近の実験結果を含めて研究紹介を行う。

要約(英語): We developed the blowing plasma CVD method for the low-temperature synthesis of high-quality graphene film.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,658 Kバイト