Yb:YAGアクティブミラーによるマルチパス増幅特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP19059

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2019/05/17

タイトル(英語): Characteristics of multi-pass amplification by use of Yb:YAG active mirror

著者名: 影山 稜(宇都宮大学),前田 啓吾(宇都宮大学),小倉 拓人(宇都宮大学),東口 武史(宇都宮大学)

著者名(英語): Ryo Kageyama(Utsunomiya University),Keigo Maeda(Utsunomiya University),Takuto Ogura(Utsunomiya University),Takeshi Higashiguchi(Utsunomiya University)

キーワード: アクティブミラー|マルチパス|高繰り返しレーザー|Ｙｂ：ＹＡＧ|active mirror|multi-pass|high repetition rate|Yb:YAG

要約(日本語): 半導体リソグラフィーにはArFレーザーが用いられており，ビーム品質を向上させる必要がある．その中の一つがスペクトル純度を向上させることである．本質的にエキシマレーザーの帯域幅は広いため，発振段でのスペクトルを狭帯域化するため，固体レーザーを発振段に用いる．高繰り返し高出力発振段を実現するため，Yb:YAGアクティブミラーによるマルチパス増幅を適用する．本発表では増幅特性について報告する．

要約(英語): We characterized the amplification of the multi-pass with an Yb:YAG active mirror, together with the thermal lens effects and the wavefront distortions. The output power at 1030 nm was achieved to be up to 1 W at a repetition rate of 6 kHz.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 914 Kバイト