透明酸化物生産に関するプラズマ合成法の比較研究

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP19080

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2019/07/24

タイトル(英語): Comparison study of plasma synthesis methods for TCO films manufacturing

著者名: キュゾビック ティホミール(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Tihomir Cuzovic(IBARAKI UNIVERSITY),Naoyuki Sato(IBARAKI UNIVERSITY),Takashi Ikehata(IBARAKI UNIVERSITY)

キーワード: plasma synthesis|TCO|ion plating|arc discharge plasma |undoped ZnO

要約(日本語): 抵抗率が低く透明な酸化物をZnO材料から合成する場合、アークや低気圧プラズマを用いるが、特性の更なる改善には、プラズマ源の選択が重要であり、低気圧混合プラズマを用いたイオンプレーティング法について、アークプラズマとの比較を通して、有用性を発表する。

要約(英語): Among many materials and possible methods for their synthesis we chose ion plating method for synthesis undoped zinc oxide (ZO) on the glass substrate, mainly because low absorption coefficient of zinc, its environmentally safe structure and highly competitive opto-electronic properties. In this paper the differences between ion plating and reactive plasma deposition based on arc discharge plasma are shown. By employing ion plating method highly transparent samples with average optical transmittance in visible range <ζ> ~ 80%, and sheet resistance (Rs) as low as ~1Ω/? has been obtained.

原稿種別: 英語

PDFファイルサイズ: 1,346 Kバイト