外部磁場印加制御型放電プラズマ導波路の電子密度分布制御のための磁場分布の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP19096

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2019/10/25

タイトル(英語): Investigation of magnetic field distribution for controlling electron density distribution of discharge plasma waveguide with external magnetic filed

著者名: 大澤 槙人(長岡技術科学大学),嶋村 遼哉(長岡技術科学大学),佐々木 徹(長岡技術科学大学),高橋 一匡(長岡技術科学大学),菊池 崇志(長岡技術科学大学)

著者名(英語): Makito Osawa(Nagaoka University of Technology),Ryoya Shimamura(Nagaoka University of Technology),Toru Sasaki(Nagaoka University of Technology),Kazumasa Takahashi(Nagaoka University of Technology),Takashi Kikuchi(Nagaoka University of Technology)

キーワード: 放電プラズマ導波路|外部磁場|凹型電子密度分布|discharge plasma waveguide|external magnetic field|concave electron density distribution

要約(日本語): 放電生成型プラズマ導波路の電子密度分布を独立して制御するために，外部磁場印加を用いた制御方法を検討している．本稿では，プラズマ導波路に磁場を印加したときの電子密度分布の時間発展について報告する．コイルによって2種類の磁場分布を印加して実験を行った．どちらの磁場分布でも，電子密度10^17cm^-3のプラズマ導波路が形成され，外部磁場を印加した場合は印加しない場合に比べて電子密度が大きくなった．

要約(英語): To control the spatial electron density distribution in the discharge plasma waveguide, we consider a control method using external magnetic field. The time-evolution of electron density in the plasma waveguide was measured. Electron density under the condition of applying external magnetic field was higher than that of no magnetic field.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,007 Kバイト