ペニング型パルススパッタによるタンタルプラズマ源の放電特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP19097

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2019/10/25

タイトル(英語): Discharge characteristics of tantalum plasma source by Penning type pulsed sputtering discharge.

著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),齋藤 巧(兵庫県立大学)

著者名(英語): Azuma KIngo(University of Hyogo),Saito Takumi(University of Hyogo)

キーワード: ペニング放電|リアクティブパルスパルススパッタリング|ＨｉＰＩＭＳ／ＨＰＰＭＳ|タンタル|窒化物|プラズマイオンプロセス|Penning discharge|Reactive pulsed sputtering| HiPiMS/HPPMS|Tantalum|Nitride|Plasma ion process

要約(日本語): ペニング型パルススパッタプラズマ源は高い電離度をもつ金属プラズマを精製する。今回はタンタルターゲットを用いてタンタルを主成分とする金属プラズマの生成を試みた。発効分光分析の結果、タンタルイオンの発光を確認できた。

要約(英語): Penning type pulsed sputtering plasma source generates metal plasma with high ionization degree. This time, we tried to generate a metal plasma composed mainly of tantalum using a tantalum target. Strong emission lines from tantalum ions were confirmed by optical emission spectroscopy in the ultraviolet region.discharge characteristics than titanium plasma.

原稿種別: 日本語

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