下段コイル電流変調と急冷ガス間歇導入とを組み合わせたタンデム型Ar誘導熱プラズマの電磁熱流体解析
下段コイル電流変調と急冷ガス間歇導入とを組み合わせたタンデム型Ar誘導熱プラズマの電磁熱流体解析
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: EPP19099
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会
発行日: 2019/10/25
タイトル(英語): A Numerical Study on Tandem Type of Induction Thermal Plasmas with Lower Coil Current Modulation and Modulated Injection of Quenching Gas
著者名: 古川 颯大(金沢大学),隠田 一輝(金沢大学),明石 恵太(金沢大学),田中 康規(金沢大学),中野 裕介(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),末安 志織(日清製粉グループ),渡邉 周(日清製粉グループ),中村 圭太郎(日清製粉グループ)
著者名(英語): Ryudai Furukawa(Kanazawa Univerity),Kazuki Onda(Kanazawa Univerity),Keita Akashi(Kanazawa Univerity),Yasunori Tanaka(Kanazawa Univerity),Yusuke Nakano(Kanazawa Univerity),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa Univerity),Tatsuo Ishijima(Kanazawa Univerity),Shiori Sueyasu(Nisshin Seifun Group),Shu Watanabe(Nisshin Seifun Group),Keitaro Nakamura(Nisshin Seifun Group)
キーワード: タンデム型変調誘導熱プラズマ|電磁熱流体解析|急冷ガス間欠導入|下段コイル電流変調|Tandem Type Modulated Inductivity Thermal Plasma|Numerical Thermouid Simulation|Modulated Injection of Quenching Gas|Lower Coil Current Modulation
要約(日本語): 筆者らは,2つの独立のコイルを持つタンデム型誘導熱プラズマを開発してきた.さらに,その電磁熱流体解析モデルを構築し,定常状態における熱プラズマの様相を検討してきた.本研究では,タンデム型誘導熱プラズマにおいて下段コイルを変調させ,急冷ガスをタンデム型トーチ下流から導入した場合の温度場について電磁熱流体解析により,連続供給時と間欠導入時との比較および検討を行った.
要約(英語): We have developed thermofluid model for tandem type of induction thermal plasma with different two coils, and investigated its temperature in case of steady state. In this study, we investigated temperature field when the lower coil was modulated and the quenching gas was introduced from downstream of the tandem torch.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 5,686 Kバイト
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