酸素分子の解離を考慮したループ型Ar-O2誘導熱プラズマの三次元電磁熱流体解析

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP19100

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2019/10/25

タイトル(英語): Three-Dimensional Modeling on Ar-O2 Loop Type of Induction Thermal Plasmas with O2 Dissociation

著者名: 杉山 祐樹(金沢大学),大関 元紀(金沢大学),田中 康規(金沢大学),中野 裕介(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),幸本 徹哉(株式会社シー・ヴィ・リサーチ),川浦 廣(シー・ヴィ・リサーチ)

著者名(英語): Yuki Sugiyama(Kanazawa University),Genki Ohzeki(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yusuke Nakano(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Tetsuya Yukimoto(CV Research Co., Ltd.),Hiroshi Kawaura(CV Research Co., Ltd.)

キーワード: 誘導熱プラズマ|ループ型|三次元熱流体解析|酸素分子の解離|Induction thermal plasmas|Loop type|Three-dimensional thermofuluid simulation|Dissociation of oxygen molecules

要約(日本語): 本報告では，ループ型Ar-O2誘導熱プラズマ(Loop-ICTP)の三次元電磁熱流体解析の結果を記述する。Loop-ICTP 装置は，誘導熱プラズマによる基板の大面積処理を行うために，我々が独自開発したものである。本解析では酸素分子の重粒子衝突による解離を反応速度のガス温度依存性を考慮して取り入れた。本モデルにより，酸素ガス導入流量の変更に対する酸素原子分布などへの影響を検討した。

要約(英語): This paper describes the calculation results of Ar-O2 loop type of inductively coupled thermal plasmas (Loop-ICTP)using the developed three-dimensional thermofluid model. The Loop-ICTP torch has originally been developed forlarge-area surface modification of materials. In the model, O2 dissociations by heavy particle collisions and by electron impacts were taken into account with temperature-dependent reaction rates. Using this model, influence ofoxygen flow rate was studied on the spatial distribution of oxygen atom generated in the loop-ICTP.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 6,696 Kバイト