初歩的な半導体プロセス教育へのTCADの応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: FIE18029

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 教育フロンティア研究会

発行日: 2018/12/08

タイトル(英語): Application of TCAD to elementary semiconductor process education

著者名: 足立 拓磨(広島工業大学),田中 武(広島工業大学)

著者名(英語): Adachi Tajuma(Hiroshima Institute of Technology),Tanaka Takeshi(Hiroshima Institute of Technology)

キーワード: 半導体|ＴＣＡＤ|semiconductor|TCAD

要約(日本語): 本研究ではTCAD(Technology Computer Aided Design)を用い、半導体デバイス技術開発者を目指す学生に、半導体プロセスの初歩的な教育を行うシステムを構築した。TCADを用いたシミュレーションを行うことで、実物では観察することが困難なデバイスの内部構造や不純物濃度などを視覚化し、半導体プロセスへの理解を深めることができる。

要約(英語): In this research, we have constructed a system for elementary education of semiconductor process for students aiming for semiconductor device technology developers using TCAD . Through simulation using TCAD, it is possible to visualize the internal structure of the device, the impurity concentration, etc., and to deepen the understanding of the semiconductor process.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,046 Kバイト