超音波噴霧法による酸化物半導体薄膜の作製と太陽電池への応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: FTE12034

グループ名: 【B】電力・エネルギー部門 新エネルギ－・環境研究会

発行日: 2012/09/07

タイトル(英語): Thin Film Fabrication of Oxide Semiconductor by Ultrasonic Spray-Assisted Mist CVD Method toward Thin Film Solar Cells

著者名: 池之上 卓己(滋賀県立大学),藤田 静雄(京都大学),坂本 眞一(滋賀県立大学),乾 義尚(滋賀県立大学)

著者名(英語): Ikenoue Takumi(The University of Shiga Prefecture),Fujita Shizuo(Kyoto University),Sakamoto Shinichi(The University of Shiga Prefecture),Inui Yoshitaka(The University of Shiga Prefecture)

キーワード: 超音波噴霧法|酸化物|薄膜太陽電池|Mist Deposition|Oxide Semiconductor|Thin Film Solar Cells

要約(日本語): 溶液を原料とし非真空で高品質な酸化物薄膜が作製できる「超音波噴霧法」を用いて、透明導電性酸化物(ZnO、ITO)薄膜を作製した結果について報告する。これらの薄膜は、従来の真空プロセスで作製した薄膜と比較しても十分な電気伝導性、可視光透過率を有し、光デバイスへの応用可能なものであった。また、有機半導体と組み合わせて、紫外線検出器や薄膜太陽電池への応用も行ったので、その結果についても述べる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 8,789 Kバイト