量子化構造の作製技術と素子応用の動向

カテゴリ: 技術報告

論文No: 680

グループ名: 【D】産業応用部門

発行日: 1998/05/29

著者名: 量子化電子材料調査専門委員会

要約(日本語): 　本報告書では，特に半導体の量子化構造に関して，作製技術・基礎物性・素子応用の点から最新の情報をまとめた。　　作製技術においては，走査型プローブ顕微鏡を用いたナノメートルオーダでの表面加工や表面評価・電子線描画によるリソグラフィを用いた微細加工・収束イオンビームによるリソグラフィやナノメートルオーダの幅の伝導チャネルやトンネルバリアの形成について，これらの技術を応用して作製した量子細線や量子ドットの基礎的特性とともに報告している。さらに，微傾斜基板上に結晶成長して作製した量子細線や，結晶成長において自己形

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