真空中での荷電粒子の発生と放電の制御―最近の研究動向と技術解説―

カテゴリ: 技術報告

論文No: 757

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 1999/11/25

著者名: 真空中での荷電粒子の発生と放電の制御技術調査専門委員会

要約(日本語): 真空中の放電現象が関係する技術分野は，機器が使用される環境・条件が厳しくなるに伴い，ますます拡大している。すなわち，真空遮断器，加速器等では高度の絶縁耐圧が要求され，荷電粒子の発生を抑制することが不可欠である。一方，逆に荷電粒子の発生を促進できれば，電子あるいはイオン源として利用できる。さらに，真空アークは，高純度・高機能の薄膜作成に利用されている。真空中の放電現象をいかに制御するかが，今後のさまざまな分野の技術開発に大きな影響を及ぼすと考えられる。　　本技術報告は，1996年1月から1998年12月まで

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