非平衡プラズマと微細加工のモデリング－モデリングおよび基礎理論・基礎計測における最近の進展－

カテゴリ: 技術報告

論文No: 790

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2000/05/30

著者名: 非平衡プラズマと微細加工のモデリング調査専門委員会

要約(日本語): 非平衡プラズマを用いたエッチングや薄膜堆積などの微細加工技術は半導体集積回路製造を支える基盤技術である。加工パターンの微細化，ウェハーの大口径化の進展ともに，微細加工の諸特性に対する要求は厳しさを増し，プラズマ内部の物理・化学過程の本質的理解なしに要求を実現することは困難になってきた。複雑多岐にわたるプラズマ内部過程を把握し，所望の特性を持つプラズマリアクタを設計するためのツールとして，プラズマモデリング技術の高度化が求められている。一方，プラズマの基礎理論・基礎計測は正確なモデリング手法の確立に欠くこと

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