最先端リソグラフィ技術の開発動向

カテゴリ: 技術報告

論文No: 883

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2002/06/05

著者名: 次世代リソグラフィ技術調査専門委員会

要約(日本語): 次世代リソグラフィ技術調査専門委員会は，1999年の設置以来3年間にわたり最先端リソグラフィ技術についての調査活動を行った。この間，各分野の第一人者を招聘して約2ヶ月に1回の周期で委員会を15回開催した。また，公開研究会を2回，支部講習会を1回，見学会（放射光施設：スプリング8およびNewすばる）を1回開催した。 本報告書は，調査専門委員会解散にあたり，これらの調査結果を，メンバーの調査専門委員が各自の得意分野に応じて分担し，網羅的にまとめたものである。 まず，光，電子線，EUV，X線の各リソグラフ

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