シャックハルトマン法を用いた二次元電子密度分布測定によるSF6ガス中アークの遮断成否評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: HV13095

グループ名: 【B】電力・エネルギー部門 高電圧研究会

発行日: 2013/11/20

タイトル(英語): Two-Dimensional Electron Density Imaging for SF6 Arc Interruption Phenomenon Using Shack-Hartmann Type Laser Wavefront Sensor

著者名: 稲田 優貴(東京大学),松岡 居成(東京大学),熊田 亜紀子(東京大学),池田 久利(東京大学),日高 邦彦(東京大学)

著者名(英語): Inada Yuki(The University of Tokyo),Matsuoka Shigeyasu(The University of Tokyo),Kumada Akiko(The University of Tokyo),Ikeda Hisatoshi(The University of Tokyo),Hidaka Kunihiko(The University of Tokyo)

キーワード: アーク|遮断|電子密度|シャックハルトマン|ＳＦ６|arc|interruption|electron density|Shack-Hartmann|SF6

要約(日本語): SF6ガス遮断器の開発現場では、同一の回路条件で遮断試験を行った場合でも、遮断の成否が分かれる場合がある。そこで本研究では、SF6フリーアークとSF6ガス吹付けアークを対象とし、遮断の成否が分かれる交流電流波形を設計した。そして遮断の成否で二次元電子密度分布にどのような違いがあるのか、電流ゼロ点近傍において測定を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,319 Kバイト