電子ビーム処理を施したCuCrにおける真空中の絶縁破壊特性と電子衝撃による脱離気体分析

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: HV13112

グループ名: 【B】電力・エネルギー部門 高電圧研究会

発行日: 2013/11/20

タイトル(英語): Electron stimulated desorption gas analysis and breakdown characteristics of electron beam treated CuCr electrodes

著者名: 近藤 淳一(埼玉大学),狩野 弘毅(埼玉大学),山納 康(埼玉大学),小林 信一(埼玉大学),浅利 直紀(株式会社東芝),塩入 哲(株式会社東芝),松尾 和宏(株式会社東芝)

著者名(英語): kondo jyunichi(saitama university),kanou koki(saitama university),yamano yasushi(saitama university),kobayashi shinichi(saitama university),asari naoki(toshiba corp.),shioiri tetsu(toshiba corp.),matsuo kazuhiro(toshiba corp.)

キーワード: ＣｕＣｒ|真空|真空中絶縁破壊|脱離ガス|電子ビーム処理|CuCr|Vacuum|Vacuum Breakdown|Desorbed Gas|Electron Beam Treatment

要約(日本語): CuCrに電子ビーム処理を施すと，未処理のCuCrに比べて真空中の絶縁破壊電圧が向上することが報告されている．しかし絶縁破壊電圧向上の機構は未解明である．そこで本研究では電子ビーム処理を施したCuCr電極と未処理の電極を用意し，真空中の絶縁破壊試験と電子衝撃脱離気体の分析を行った．それぞれの電極の絶縁破壊試験，電子衝撃脱離気体分析の結果から絶縁破壊特性と電子衝撃脱離気体の関係を調査したので，報告を行う．

要約(英語): It is known that vacuum breakdown voltage of CuCr electrode with electron beam treatment is higher than that without electron beam treatment. However the mechanism of the breakdown phenomenon has not been clarified. This paper presents measurements of breakdown characteristics and electron stimulated desorption gas analysis of CuCr electrode with and without electron beam treatment.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,442 Kバイト