適応オブザーバに基づく次世代露光装置用超精密ステージの静止摩擦補償法

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: IIC05124

グループ名: 【D】産業応用部門　産業計測制御研究会

発行日: 2005/10/28

タイトル(英語): Adaptive Observer Based-Static Friction Compensation of Ultra precision Stages for Next-Generation Semiconductor Exposure Equipment

著者名: 黒川 敏幸(群馬大学),橋本 誠司(群馬大学),大石潔 (長岡技術科学大学),小坂 光二(テックコンシェルジェ熊本),石川 赴夫(群馬大学),久保田 弘(熊本大学),大兄 忠弘(東北大学)

著者名(英語): Takayuki Kurokawa(Gunma University),Seiji Hashimoto(Gunma University),Kyoshi Ohishi(Nagaoka University of Teclhnology),Koji Kosaka(Tech-concierge KUMAMOTO),Takeo Ishikawa(Gunma University),Hiroshi Kubota(Kumamoto University),Tadahiro Ohmi(Tohoku University)

キーワード: 非共振型超音波アクチュエータ|精密ステージ|スティックスリップ|摩擦オブザーバ

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,067 Kバイト