次世代マッチングコントローラ用ロバスト制御に関する研究

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: IIC09092

グループ名: 【D】産業応用部門 産業計測制御研究会

発行日: 2009/03/11

タイトル(英語): The Analysis of the Impedance Matching Control

著者名: 広瀬 裕己(横浜国立大学大学院),河村 篤男(横浜国立大学),高柳 敦(株式会社京三製作所),高田 浩一(株式会社京三製作所)

著者名(英語): Hirose Yuuki(Yokohama National University),Kawamura Atsuo(Yokohama National University),Takayanagi Atsushi(Kyosan),Takada Hirokazu(Kyosan)

キーワード: インピーダンス･マッチング|マッチャー|ＲＦ　ジェネレータ|Impedance Matching|Matcher|RF Generator

要約(英語): When we produce liquid displays and semiconductorsthrough plasma process , RF electricity is　supplied to the　plasma chamber and stability operation is required. This　stabilizing technique is called ”Matching Control”. A　new control approach will be pr

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 593 Kバイト