マイクロレンズアレイ製作用凹面レジストパターンの曲率半径の測定

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: IM17033

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 計測研究会

発行日: 2017/11/09

タイトル(英語): Measurement of Curvature Radii of Concave Resist Patterns Printed for Fabricating Micro-Lens Arrays

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学),笹木 龍之介(東京電機大学),小林 野歩(東京電機大学)

著者名(英語): Toshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki University),Ryunosuke Sasaki(Tokyo Denki University),Noa Kobayashi(Tokyo Denki University)

キーワード: 凹面レジストパターン|曲率半径|マイクロレンズアレイ|機械製図ソフト|デフォーカス投影露光|断面形状曲線|concave resist pattern|curvature radius|micro-lens array|software for mechanical drawing|defocus projection lithography|cross section profile

要約(日本語): パターン形成の原版であるレチクル上の六角形穴パターンをデフォーカス条件で像をぼかして投影し、ウエハに塗布したレジスト上に球面上の凹面パターンを形成し、それを型に樹脂を注入してマイクロレンズアレイを製作する。レジスト凹面パターンの断面形状をデフォーカス量と露光時間により制御するため、レーザ顕微鏡による断面測定曲線から機械製図ソフトウェアを利用して曲率半径を簡便かつ高精度に測定した。

要約(英語): Concave resist mold patterns are printed using defocused projection lithography for fabricating micro-lens arrays by injecting liquid resin in them. To evaluate the resist patterns, cross section profiles were measured using a laser microscope, and the curvature radii were simply but precisely measured utilizing a software used for mechanical drawing.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,105 Kバイト