余剰パターンに対してロバストなテンプレートマッチングの一考察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: IP11005

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 情報処理研究会

発行日: 2011/04/22

タイトル(英語): A Study of Template Matching with Robustness for Surplus Pattern

著者名: 長友 渉(日立ハイテクノロジーズ),安部 雄一(日立ハイテクノロジーズ),池田 光二(日立ハイテクノロジーズ)

著者名(英語): Nagatomo Wataru(Hitachi High-Technologies Corporation),Abe Yuichi(Hitachi High-Technologies Corporation),Ikeda Mitsuji(Hitachi High-Technologies Corporation)

キーワード: 画像処理|テンプレートマッチング|マスク処理|半導体デバイス|検査・計測|設計データ

要約(日本語): 半導体デバイスの検査・計測に画像を用いる装置において、計測点の視野ずれ補正を行うためのテンプレートマッチング処理、特に装置の稼働率向上を目的にデバイスの設計データからオフラインで作成したテンプレートを用いたマッチング処理を開発している。今回、装置で取得した画像にテンプレートにはない余剰パターンが写り込んだ場合でも、余剰パターンへの自動マスク処理によりロバストなマッチングを行う方法を開発した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 678 Kバイト