低k1リソグラフィ技術

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV06001

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　光応用・視覚研究会

発行日: 2006/03/03

タイトル(英語): Low k1 Lithography

著者名: 笠間 邦彦(NECエレクトロニクス株式会社)

著者名(英語): Kunihiko Kasama(NEC Electronics Corporation)

キーワード: 低k1リソグラフィ|光近接効果|光近接効果補正|マスクエラー･エンハンスメント･ファクタ|ラインエッジ･ラフネス|ライン幅･ラフネス|超解像手法|製造最適化デバイス設計

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,613 Kバイト