高屈折率液浸材料開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV06004

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　光応用・視覚研究会

発行日: 2006/03/03

タイトル(英語): High-Refractive-Index Materials for ArF Immersion Lithography

著者名: 稗田 克彦(JSR株式会社 電子材料事業部),Yong Wang(JSR株式会社 四日市研究センター)

著者名(英語): Katsuhiko Hieda(Electronic Materials Div.,JSR Corporation),Yong Wang(Yokkaichi Research Center,JSR Corporation)

キーワード: 液浸露光|高屈折率液体|高屈折率材料

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,033 Kバイト