EUV露光装置技術の開発の現状

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV06005

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　光応用・視覚研究会

発行日: 2006/03/03

タイトル(英語): Present status of key technologies for EUV lithography system

著者名: 福田 恵明(技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構)

著者名(英語): Yasuaki Fukuda(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association : EUVA)

キーワード: 多層膜|反射光学系|投影光学系|プラズマ光源|LPP|DPP|イオンビーム加工技術|EEM|加工技術|コンタミネーション制御|表面酸化

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 992 Kバイト