低分子EUVレジストの開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV06006

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　光応用・視覚研究会

発行日: 2006/03/03

タイトル(英語): Development of Molecular Resist for EUV Lithography

著者名: 塩野 大寿(東京応化工業株式会社),平山 拓(東京応化工業株式会社),羽田 英夫(東京応化工業株式会社),小野寺 純一(東京応化工業株式会社),新井 唯(株式会社日立製作所中央研究所),山口 敦子(株式会社日立製作所中央研究所),小島 恭子(株式会社日立製作所中央研究所),白石洋(株式会社日立製作所中央研究所),福田 宏(株式会社日立製作所中央研究所),老泉博昭(ASET),西山岩男(ASET)

著者名(英語): Daiju Shiono|Taku Hirayama|Hideo Hada|Junichi Onodera|Tadashi Arai|Atsuko Yamaguchi|Kyoko Kojima|Hiroshi Shiraishi|Hiroshi Fukuda

キーワード: 低分子レジスト|低ラフネス|化学増幅ポジ型

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 562 Kバイト