厚膜レジスト光リソグラフィのマイクロメカニクスへの応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV09012

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会

発行日: 2009/02/05

タイトル(英語): Application of Optical Lithography Using a Thick Resist Film to Micro-Mechanics

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学),阿 松男(東京電機大学),渡部 雄介(ニコン)

著者名(英語): Toshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki University),Matsuo Ataka(Tokyo Denki University),Yuusuke Watanaben(Tokyo Denki University,Present Address:Nikon Corporation)

キーワード: 厚膜レジスト|光リソグラフィ|投影露光|マイクロ羽根車|マイクロメカニクス|めっき雌型|Thick resist|optical lithography|projection exposure|micro-impeller|micro-mechanics|mould for electroplating

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,145 Kバイト