液浸露光機の現状と将来

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV09025

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会

発行日: 2009/03/19

タイトル(英語): Current Status of Immersion Exposure Tools and Their Future

著者名: 中村 信一(ニコン)

著者名(英語): Shin-ichi Nakamura(Nikon Corporation)

キーワード: Immersion lithography|ArF|NSR-S610C|Tandem stage|Local fill nozzle|Overlay accuracy|CDU|Defects|Immersion lithography|ArF|NSR-S610C|Tandem stage|Local fill nozzle|Overlay accuracy|CDU|Defects

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,059 Kバイト