hp32nm以降のArF液浸DP用Freezing技術

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV09026

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会

発行日: 2009/03/19

タイトル(英語): Freezing Technology in ArF Immersion Double Patterning for below hp32nm

著者名: 稗田 克彦(JSR),星子 賢二(JSR),塩谷 健夫(JSR),庵野裕輔 (JSR),柿澤 友洋(JSR),堀 雅文(JSR),征矢野 晃雅(JSR),藤原 考一(JSR),中村 敦(JSR),杉浦 誠(JSR),山口 佳一(JSR),下川 努(JSR)

著者名(英語): Katsuhiko Hieda(JSR Corporation),Kenji Hoshiko(JSR Corporation),Takeo Shioya(JSR Corporation),Yusuke Anno(JSR Corporation),Tomohiro Kakizawa(JSR Corporation),Masafumi Hori(JSR Corporation),Akimasa Soyano(JSR Corporation),Koichi Fujiwara(JSR Corporation),Atsushi Nakamura(JSR Corporation),Makoto Sugiura(JSR Corporation),Yoshikazu Yamaguchi(JSR Corporation),Tsutomu Shimokawa(JSR Corporation)

キーワード: ダブルパターニング|レジスト固化|ArF液浸露光|化学的収縮|Double Patterning|Resist Freezing|ArF Immersion Lithography|Chemical Shrink

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,257 Kバイト