不均一なパターン密度においても均一で薄い残膜を形成するナノインプリント手法

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV09027

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会

発行日: 2009/03/19

タイトル(英語): Nanoimprint method producing thin and uniform residual layer for various pattern densities

著者名: 廣 島洋(産業技術総合研究所,JST-CREST)

著者名(英語): Hiroshi Hiroshima(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology,JST-CREST)

キーワード: ナノインプリントリソグラフィ|光ナノインプリント|残膜|パターン密度|容積均一化モールド|nanoimprint lithography|UV-nanoimprint|residual layer|pattern density|capacity equalized mold

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 811 Kバイト