EUV露光技術の開発状況

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV09028

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会

発行日: 2009/03/19

タイトル(英語): Current Development Status of EUV Lithography

著者名: 笠間 邦彦(EUVA),堀田和明 ウシオ電機(EUVA.ウシオ電機)

著者名(英語): Kunihiko Kasama(EUVA),Kazuaki Hotta.Ushio Inc (EUVA.Ushio Inc.)

キーワード: 極端紫外線露光|LPP光源|DPP光源|波面収差|フレア|化学増幅系レジスト|ライン幅ラフネス|Extreme ultraviolet lithography|Laser Produced Plasma source|Discharge Produced Plasma source|Wave front aberration|Flare|Chemically amplified resist|Line width roughness

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,240 Kバイト