EUVLにおけるリソグラフィーシミュレーション

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV09030

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会

発行日: 2009/03/19

タイトル(英語): Study of the simulation parameter for EUVL

著者名: 関口 淳(Litho Tech Japan)

著者名(英語): Atsushi Sekiguchi(Litho Tech Japan)

キーワード: EUVL|リソグラフィーシミュレーション|シミュレーションパラメータ|EUV lithography|Lithography simulation|Simulation parameter

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 764 Kバイト