液晶マトリックス投影露光の厚膜紫外線レジストへの適用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV11027

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日: 2011/12/02

タイトル(英語): Application of Liquid-Crystal-Display Projection Exposure to Patterning of Thick Resist Sensitized by Ultra-Violet Light

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学 ),白鳥 翔(東京電機大学)

著者名(英語): Horiuchi Toshiyuki(Tokyo Denki University),Shiratori Sho(Tokyo Denki University)

キーワード: リソグラフィ|レチクルレス露光|液晶パネル|厚膜レジスト|lithography|reticleless exposure|liquid crystal display panel|thick resist

要約(日本語): 多品種少量生産のマイクロ部品製作用のリソグラフィとして、レチクルの代替に透過型液晶パネルを用いて投影露光する方法が有用である。レチクル価格分の低コスト化が図れ、パターンの設計、修正が即座に容易に行える。しかし、紫外線領域で液晶の明暗コントラストが取れないため、定評のある厚膜紫外線レジストが使えなかった。そこで、可視レジスト、アルミ膜、紫外線レジストの3層プロセスを考案し、厚膜紫外線レジストのパターンを形成できるようにした。

要約(英語): Lithography using a liquid crystal display (LCD)panel in place of a reticle is effective for fabricating various micro-parts with low costs. However, because the LCD don't have bright and dark contrasts for ultra violet (UV) light, the lithography could not be applied to UV resists. For this reason, three-layer resist process was newly developed for utilizing thick UV resists.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 3,816 Kバイト