屈折率分布型レンズアレイを用いた15ミクロン級大パターン形成用投影露光技術

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV16022

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日: 2016/12/21

タイトル(英語): Projection Exposure Using a Gradient-Index Lens Array for Printing Large Patterns with Widths of More than 15 microns

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学),佐藤 貴紀(東京電機大学)

著者名(英語): Toshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki University),Takanori Sato(Tokyo Denki University)

キーワード: 屈折率分布型レンズアレイ|投影露光|大パターン|走査露光|副走査|線幅均一性|gradient index lens array|projection exposure|large pattern|scan exposure|sub scan|width homogeneity

要約(日本語): 流体デバイス、バイオセル、レンズアレイなど、線幅20～50μmの大パターンを、リソグラフィを用いて20～50mm角の領域に形成するための簡便・安価なツールとして、屈折率分布型レンズアレイを用いた等倍投影露光装置を自作した。レンズアレイに対し、レチクルとウエハを同時にアレイの配列方向に往復走査しながらアレイの配列と垂直な方向に走査し、均一な15μmライン&スペースパターンを形成できる見通しを得た。

要約(英語): A new projection exposure system using a gradient-index lens array was handmade for inexpensively and simply printing 20-50 μm wide patterns. Such large patterns are required for fabricating fluidic devices, bio cells, and micro-lenses in 20-50 mm fields. By improving the scanning method, good prospects for homogeneously printing 15 μm wide patterns were obtained.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 885 Kバイト