超短パルス軟Ｘ線レーザーアブレーション

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV19017

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日: 2019/08/30

タイトル(英語): Ultra-short pulse soft x-ray laser ablation

著者名: 石野 雅彦(量子科学技術研究開発機構),ヂン タンフン(量子科学技術研究開発機構),北村 俊幸(量子科学技術研究開発機構),長谷川 登(量子科学技術研究開発機構),錦野 将元(量子科学技術研究開発機構)

著者名(英語): Masahiko Ishino(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology),Tanh-Hung Dinh(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology),Toshiyuki Kitamura(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology),Noboru Hasegawa(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology),Masaharu Nishikino(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology)

キーワード: 超短パルスレーザー|軟Ｘ線レーザー|アブレーション|アブレーション閾値|表面加工|Ultra-short pulse laser|soft x-ray laser|ablation|ablation threshold|surface processing

要約(日本語): 波長13 nm領域のピコ秒およびフェムト秒軟X線レーザーを用いたアブレーション実験を実施した。超短パルス軟Ｘ線レーザーのアブレーションでは、ピコ秒軟Ｘ線レーザーおよびフェムト秒軟Ｘ線レーザーのアブレーション閾値が一致すること、光学レーザーに比してアブレーション閾値が低いこと、そして、閾値近傍の照射フルエンス領域では物質特有のナノ構造が形成されることを見出した。

要約(英語): The ablation phenomena caused by both the femtosecond and the picosecond soft x-ray laser pulses were investigated. The quite low ablation threshold values were obtained by ultra-short pulse soft x-ray lasers.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,467 Kバイト