ホウ素フリーめっき浴を用いた低保磁力Fe-Ni膜の高効率成膜

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LD16136

グループ名: 【D】産業応用部門 リニアドライブ研究会

発行日: 2016/12/05

タイトル(英語): High current efficiency fabrication of Fe-Ni films with low coercivity using a boron-free plating bath.

著者名: 幸田 一輝(長崎大学),杉原 健太(長崎大学),江口 和樹(長崎大学),高嶋 恵佑(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Kazuki Koda(Nagasaki University),Kenta Sugihara(Nagasaki University),Kazuki Eguchi(Nagasaki University),Keisuke Takashima(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: 電析|めっき|パーマロイ|軟磁性

要約(日本語): 軟磁性めっき膜に関しては，従来多くの報告がなされていたものの，その多くはpH緩衝剤としてホウ酸を用いていた。このホウ酸に含まれるホウ素が我が国では排水規制されている。最近我々は，ホウ酸の代替としてアンモニウム塩を用いためっき浴から高い電流効率で軟磁性Fe-Ni膜を作製可能であることを報告した。本研究では，アンモニウム塩を用いためっき浴に関してより詳細な検討を行った結果を報告する。

要約(英語): We recently reported a plating bath with ammonium salts is attractive to obtain Fe-Ni films since the films show low coercivity and high current efficiency. In the present study, we investigated the effect of the plating conditions on the magnetic properties of the films for the bath with ammonium salts.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,327 Kバイト