真空アーク蒸着法により作製したSi基板上Nd-Fe-B系磁石膜の諸特性に及ぼす放電エネルギーの影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LD16139

グループ名: 【D】産業応用部門 リニアドライブ研究会

発行日: 2016/12/05

タイトル(英語): Effect of discharge energy on various properties in Nd-Fe-B film magnets deposited on Si substrates prepared using vacuum arc deposition

著者名: 岩下 拳士(長崎大学),白岩 優人(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Kenshi Iwashita(Nagasaki University),Yuto Shiraiwa(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: 真空アーク蒸着法|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ|Ｓｉ|放電エネルギー|vacuum arc deposion|Nd-Fe-B|Si|discharge energy

要約(日本語): 真空アーク蒸着法を用いて，厚さ500nmの熱酸化被膜付きSi基板上へのNd-Fe-B磁石膜の成膜を行った。放電エネルギーが44Jの場合，得られた試料の厚さとNd含有量の機械的特性の関係は，以前報告されたPLD法の結果と同じ傾向を示した。一方，放電エネルギーの減少により異なる機械的特性を示した。

要約(英語): Deposition of Nd-Fe-B film magnets on Si substrates with 500 nm-thick thermal oxide film was carried out using a vacuum arc deposition method. In the case of discharge energy of 44 J, the mechanical properties as a function of the Nd contents together with thickness of the obtained samples had a same tendency compared with the previously reported results of PLD-made films. On the other hand, the reduction in the discharge energy indicated the differnet mechanical property.

原稿種別: 日本語

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