磁束経路制御技術の適用による積層チップインダクタの高Q値化の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LD19046

グループ名: 【D】産業応用部門 リニアドライブ研究会

発行日: 2019/06/28

タイトル(英語): Examination of High Q Factor Multilayer Chip Inductor Applied Magnetic Flux Path Control Technology.

著者名: 志村 和大(信州大学),金野 泰之(信州大学),佐藤 光秀(信州大学),卜 穎剛(信州大学),水野 勉(信州大学)

著者名(英語): Kazuhiro Shimura(Shinshu University),Yasuyuki Kono(Shinshu University),Mitsuhide Satou(Shinshu University),Yinggang Bu(Shinshu University),Tsutomu Mizuno(Shinshu University)

キーワード: 積層チップインダクタ|磁束経路制御技術|Ｑ値|交流抵抗|表皮効果|近接効果|multilayer chip inductor|magnetic flux path control technology|Q factor|AC resistance|skin effect|proximity effect

要約(日本語): 電源回路の駆動周波数を上げることでインダクタの小型化が可能である。しかし，駆動周波数の増加に伴いインダクタの損失も増加し，機器全体の効率の低下を招く。そこで筆者らはインダクタの損失を低減する方法として磁束経路制御技術を提案した。本論文では，スマートフォンなどに代表される小型電子機器に使用されるチップインダクタに磁束経路制御技術を適用し，高Q値化の検討を行った。

要約(英語): The inductor used for the power supply can be miniaturized by increasing the frequency. However, as the frequency increases, the loss of the inductor increases, which hinders the improvement of efficiency. The authors suggested flux path control technology as a method to reduce inductor loss. In this paper, we investigate high Q value chip inductors with magnetic flux path control technology.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,231 Kバイト