ナノホール垂直パターンドメディアの作成とリードライト特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG05076

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2005/10/13

タイトル(英語): Fabrication and R/W Properties of Nanohole Perpendicular Patterned media.

著者名: 菊池 英幸(山形富士通･富士通研究所),大島弘敬 (山形富士通･富士通研究所),中尾 宏(山形富士通･富士通研究所),伊藤健一 (山形富士通･富士通研究所),森河剛 (富士通研究所),松本 幸治(富士通研究所),畠山 翔(首都大学東京),西尾 和之(首都大学東京･神奈川科学技術アカデミー),益田 秀樹･神奈川科学技術アカデミー(首都大学東京･神奈川科学技術アカデミー)

著者名(英語): Hideyuki Kikuchi(Yamagata Fujitsu Ltd.,Fujitsu Lab. ltd.),Hirotaka Ohshima(Yamagata Fujitsu Ltd.,Fujitsu Lab. ltd.),Hiroshi Nakao(Yamagata Fujitsu Ltd.,Fujitsu Lab. ltd.),Ken-ichi Itoh(Yamagata Fujitsu Ltd.,Fujitsu Lab. ltd.),Takeshi Morikawa(Fujitsu Lab. ltd.),Koji Matsumoto(Fujitsu Lab. ltd.),Shyou Hatakeyama(Tokyo Metropolitan University),Kazuyuki Nishio(Tokyo Metr),Hideki Masuda(Tokyo Metr)

キーワード: アルミナナノホール|パターンドメディア|垂直磁気記録|リードライト特性

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,071 Kバイト